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		  		第四十七章 新的目标  (第1/1页)
    之后的几天,许秋又做了两批器件,一批是重复PEN基片的,另一批是在同样实验条件下玻璃基片的。    PTB7-TH体系中,PEN基片的最高效率提高了一点点,达到了8.20%。    而玻璃基片下的标准样品,最高效率可达10.26%。    这个数值,相比于他之前在模拟实验室中得到的10.68%,稍差一些,可能是器件结构不同造成的。    PEN基片不能高温热退火,所以用的是PEDOT:PSS传输层的正常结构,而之前使用的是氧化锌传输层的倒置结构。    此外,虽然重点在于PTB7-TH体系,但是许秋也做了P3HT体系。    主要是为了让文章数据更加丰满一些,同时也说明这种柔性衬底的加工方式具有普适性。    再之后,许秋完成了各种表征测试,包括光吸收光谱、荧光光谱、CELIV测试等,还拍了一张用两只镊子弯曲PEN基片器件的照片。    在实验进行的间隙,许秋也在同步以论文的形式,写项目的结题报告。    这个时候,他前期阅读了大量的文献的优势就体现出来了,再加上他还可以随时向学姐请教。    因此中文论文写起来压力并不大。    正文部分,许秋先将四组器件编号,PEN基片的PTB7-TH、P3HT体系,分别为1#、3#,玻璃基片对应的体系分别为2#、4#。    然后,主要就是比较玻璃和PEN这两种基片的不同,对器件性能的影响,并分析其可能的原因。    像是光学性能,光吸收光谱和荧光光谱都是直接测有效层薄膜的,数据对两种基片的器件都是一样的。    所以不需要比较,直接将得到的图片信息转化为文字就可以了。    比如:1#、2#有效层共混薄膜的主要光吸收范围在550-750纳米,最高吸收峰位置在680纳米处,3#、4#的主要光吸收范围在300-600纳米,最高吸收峰位置在530纳米处。    荧光光谱则相对复杂一些,两种体系都需要分别测试给体、受体单独组分薄膜和共混薄膜的荧光光谱,然后计算荧光淬灭效率。    不过,同样是看图说话,也没什么难度。    而像是CELIV,则是对电池器件进行表征,那么不同样品编号的器件测试的结果就会有所不同,就需要进行比较分析。    许秋的测试结果:    1#的载流子迁移率是1.2E-4厘米平方每伏秒,2#是2.5E-4厘米平方每伏秒,显然2#更高一些,但两者在同一数量级。    因为2#对应的电池器件性能更好,就可以解释为,载流子迁移率的提高导致了器件性能的提高。    进一步,还可以继续分析下去,比如迁移率的提高会减小电荷复合情况,增大短路电流密度等等。    但如果反过来,假如他的测试结果为:    2#是1.2E-4厘米平方每伏秒,1#是2.5E-4厘米平方每伏秒。    那么就可以一笔带过,说两者载流子迁移率相差不大,在同一个数量级,或者说载流子迁移率对器件光电性能的影响不大。    许秋最开始阅读文献的时候,就时常疑惑,对于同样的一个实验现象,为什么有的人说是XX原因,有的人说是YY原因,还有人说是XXYY原因,难道学术界里就没有一种统一的观点吗?    后来,随着文献阅读量的提升,他逐渐明白了其中的道理。    材料,或者说所有的实验学科,所有对实验结果的解释其实都是猜想,理论永远是落后于实验的。    不可能凭空创造一个完美的理论模型,如果那样的话,直接开几台超算,算出最优结果就行了。    真实情况是,研究者们需要通过不断的实验,得到大量的实验数据,然后通过这些实验数据,来建立起一套理论体系。    但即使这样建立的体系,可能还是存在很多问题,需要不断的给理论打补丁。    同时,其中还会有很多现象难以解释,这个时候,行业大佬们就会提出很多种观点。    而其他研究者们在发表论文时,也会对这些现象进行讨论,提出自己的观点。    这个过程就类似于辩论。    最终,学术界可能只剩下一种统一的观点,也可能会有多种观点并存,抑或者在将来又有新理论将之前的理论完全推翻。    …………    一周过去,许秋完成了项目结题报告。    同时,他也收到了系统提示。    【进阶任务已完成,获得2000积分,权限等级 1。】    【当前权限等级为3级,模拟实验系统升级。】    【模拟实验系统LV2:    可以扫描一定空间内的实验设备、耗材,并在系统空间中将其完全模拟出来,宿主可以在模拟实验室中进行实验,每小时消耗100积分。    当前可扫描的空间上限1000立方米。    模拟实验室内开启内置加速功能,当前开放倍率0.5-2倍,使用该功能时,消耗积分为100*倍率积分每小时。】    【获得进阶任务:以第一作者身份发表一篇SCI论文。任务奖励:2000积分,权限等级 1。】    【科研辅助系统】    权限等级:3    积分:6978    进行中的任务:3个    熟练度:    【实验cao作类】    制备手段:    清洗基片(四阶40%/四阶50%)    溶液配制(四阶40%/四阶50%)    旋涂(四阶40%/四阶50%)    蒸镀(四阶35%/四阶50%)    表征手段:    光电性能(四阶40%/四阶80%)    光学性能(四阶5%/四阶80%)    电荷输运性能(三阶30%/四阶20%)    【仪器设备工具类】    ……    【特殊类】    文献阅读(二阶62%/四阶50%)    周常任务I    周常任务III    进阶任务    ##    最近攒下很多积分,不过许秋暂时不打算使用,先当个仓鼠比较好。    一方面,现在没有用模拟实验室的必要,虽然开启了加速功能,但2倍速还是不够看。    另一方面,大多数的cao作的熟练度已经达到四阶以上,失误率已降到很低,熟练度慢慢随着时间积累就可以。    他现在实验方面还没有遇上大的瓶颈,也没有必要使用五阶推演去寻求灵感。    不知不觉,系统已经陪伴许秋近两个月的时间,系统也确实如同其名字一般,是辅助科研的用途,不能凭空变出远超人类当前文明的黑科技,也不能让他变成超人。    许秋能有目前的成绩,更多的还是靠他自身的努力。    现阶段,系统对他的帮助,已经不如他初涉科研圈时候那么多了,他只能期待继续提升权限等级能够带来惊喜了。    下一个目标,发表SCI论文。
		
				
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