第816章 (第2/2页)
br> 2010年的时候,193nm光源的沉浸式光刻机还能够生产11nm制程工艺的芯片。 如果墨塔微电按照现在的技术路线走下去的话,可以肯定的一点,保证10纳米芯片的生产还是能够做到的。 但是,陈怀庆可并不只是满足这点。 实际上对于EUV光刻机的技术研发,墨塔微电也是早就已经在推进。 的确,墨塔微电做不到EUVLLc联盟那样子集合北美和欧洲之力来搞。 可陈怀庆很坚信的一点,那就是华国的聪明人多啊! 只要有明确的技术路径,再加上充足的研发投入,那么就肯定能够搞出来。 在搞出来之后,慢慢的来进行完善。 反正对于EUV光刻机实际上在需求上面来讲,并不是那么的急迫,用二十多年来弄,这总是没有问题吧? 陈怀庆最终还是觉得,优先满足墨塔半导体更加的重要。 光是墨塔半导体的需求,就足以是满足墨塔微电的发展需要。 墨塔半导体采购光刻机,自然也不是全部都采购自墨塔微电。
还是会从尼康采购一定量的光刻机产品,甚至从其他厂商那边采购上一些。 没别的目的,就拿来用上一下,感受下。 闭门造车出门合辙! 但是一般情况下,闭门造车的产物,有着各种的问题。 所以,大家就很反对闭门造车这个事情。 墨塔微电也是需要不断的从外界来吸纳技术灵感,有的时候,一个难题直接把人给卡住了。 可这个是你的难题,对于别人来讲,可能就早已经解决了这个难题。 在这个时候,如果能够借鉴上一下,那么自然就更为好了。 光刻机有三大核心技术:光源系统、光学镜头和工作台。 工作台的研发是墨塔微电自己进行的,光源系统和光学镜头是由其他企业进行的。 做光源的叫做科道虹源。 至于做光学镜头的,是海鸥相机在做。 光学镜片是由墨子光学在做。 陈怀庆在离开墨塔微电之后,就去了科道虹源。 科道虹源算不得什么大公司,甚至在外界,根本就没有多少人知道这家公司。 可这家并不被为人知的公司,却是国外某些机构重点进行关注的。 科道虹源生产的光刻机光源,就是墨塔微电的底气所在。 即使被限制获得一些零部件,对于墨塔微电来讲,的确会是有着些麻烦。 但是并非就不能够被克服。 科道虹源是公司,还不如是实验室。 因为整个公司四百六十多号人,技术研发人员就有四百四十多人。 剩余二十多人,就是行政人员了。 行政人员的存在,就是为了保障技术研发人员的工作和生活的。 陈怀庆重点的关注了EUV光源的一个研发情况。 光源的研究难度很大,这一点是肯定的。 不少人认为,EUV光刻机依靠一国的力量是搞不出来。 对此,陈怀庆只能够,那是没有遇到我们。 华国有足够多的智力资源来做已知人类科技的任何研究。 当然,现在华国的智力资源还是有着很大的不足。 或者,智力资源的潜力,还没有是完全的开拓出来。
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